光刻机巨头拟推中国特供版光刻机？ASML火速回应：并无此事

关于芯片光刻机，今日市场突然传来一则大消息，荷兰半导体设备制造商ASML阿斯麦或推出中国特供版DUV光刻机。

不过紧随其后，ASML便火速回应称：一直以来都遵守所适用的法律条例，公司并没有面向中国市场推出特别版的光刻机。

ASML否认推出中国特供版DUV光刻机

此前，根据DigiTimes报道，ASML试图规避荷兰新销售许可禁令，面向中国市场推出特别版DUV光刻机。

消息称，ASML正在考虑发布其深紫外光刻（DUV）工具的特殊版本，该工具将符合最新的美国出口规则，并且可以在没有许可证的情况下运送给中国客户。

如果该项目继续推进，中芯国际、华虹等中国半导体企业可以继续使用荷兰的设备生产28纳米及更成熟工艺的芯片。

据悉，这款特别版DUV光刻机是基于ASML的Twinscan NXT: 1980Di光刻系统进行改造的。

而Twinscan NXT: 1980Di光刻系统是ASML在10年前推出的一款旧型号，因此不在此次荷兰官方禁令的限制范围内。

Twinscan NXT: 1980Di光刻系统是ASML目前效率相对较低的光刻机型之一，它支持NA 1.35光学器件，分辨率可达到小于38纳米，这对于7nm级甚至更高级的节点来说已经足够了。事实上，这款机器最初于2016年发布，台积电曾使用它来开发其7nm级工艺技术。

目前大多数晶圆厂使用1980Di光刻机主要生产14纳米及更高工艺的芯片，而很少使用它来生产7纳米芯片。

报道表示，尽管ASML的特别版DUV光刻机是基于旧型号改造，但此次行动也将被视为一种规避荷兰新销售许可禁令的尝试。

不过就在传闻迅速发酵之际，ASML针对传闻火速回应表示：一直以来 ASML 都遵守所适用的法律条例，公司并没有面向中国市场推出特别版的光刻机。

6月30 日，荷兰政府正式颁布了有关半导体设备出口管制的新条例，其要求先进芯片制造设备的公司在出口之前须获得许可证，这些规定将于9月1日生效。

正如3月初宣布的那样，新的出口管制侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积和浸没式光刻系统。

在荷兰新规出台之后，ASML曾回应表示，根据新出口管制条例规定，ASML需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统（即TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统）。

荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证，并将向ASML提供许可证所附条件的细节。

ASML在声明中重点指出，荷兰政府新颁布的出口管制条例只涉及TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统（DUV，深紫外光刻）。

而该公司的EUV光刻（极紫外光刻）系统在此前已经受到限制，其他系统的发运暂未受荷兰政府管控。

“ASML将继续遵守适用的出口管制条例，其中包括荷兰、欧盟及美国的出口管制条例。”

据ASML财报显示，2022年该公司共出货345台光刻系统，其中有81台浸润式DUV光刻机（ArFi），占比为23%。所有产品中，42%销往中国台湾，29%销往韩国，14%销往中国大陆，7%销往美国。

编辑/Jeffrey