国产 EDA 新突破，东方晶源推出计算光刻云方案

该系统沿用东方晶源自主研发、全球率先工程应用的“全芯片反向光刻掩模优化（ILT）”技术，同时依托于公有云平台，可为客户提供 28nm 及以下技术节点的制程建模、基于 ILT 的掩模优化、设计规则与掩模规则检查（DRC / MRC）、光源掩模联合优化（IRO）、严格物理光刻仿真、DPT 版图拆分及光刻性能检查（LRC）等全产品线功能与服务。

AeroHPO 是东方晶源现有基于私有计算集群的计算光刻解决方案的补充，该系统在易获得性和灵活的收费方式等方面具有显著优势，可为高校和科研院所等提供便捷的 EDA 和计算光刻教学与科研平台，同时也为中小型芯片设计与制造企业提供更为经济和灵活的解决方案。

东方晶源的 AeroHPO 全流程协同优化系统，不仅解决了掩模优化设计问题，而且具有上游 EDA 工具以及下游缺陷分析和良率控制系统的可扩展性和兼容性，提供了从芯片设计到制造一体化的 DTCO 综合平台。

截至目前，该系统已经在合作伙伴北京超级云、华为云和腾讯云等公有云上完成测试。

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